|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 10 gevonden artikelen
| Titel: |
On the Etching Mechanisms of SiC Thin Films in CF4/CH2F2/N2/Ar Inductively Coupled Plasma |
| Auteur: |
Lee, Jongchan Efremov, Alexander Kim, Kwangsoo Kwon, Kwang-Ho |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 37 (2016) nr. 2 pagina's 489-509 |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 10 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |