Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 14 van 22 gevonden artikelen
 
 
  Plasma-Chemical Treatment of Process Gases with Low-Concentration Fluorine-Containing Components
 
 
Titel: Plasma-Chemical Treatment of Process Gases with Low-Concentration Fluorine-Containing Components
Auteur: Park, H. S.
Vaschenko, S. P.
Kartaev, E. V.
Batomunkuev, D. Yu.
Verschenen in: Plasma chemistry and plasma processing
Paginering: Jaargang 37 (2016) nr. 1 pagina's 273-286
Jaar: 2016
Inhoud:
Uitgever: Springer US, New York
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 14 van 22 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland