|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 12 van 21 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of Working Pressure on the Al2O3 Film Properties in Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition |
| Auteur: |
Hur, M. Kim, D. J. Kang, W. S. Lee, J. O. Song, Y.-H. Kim, S. J. Kim, I. D. |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 36 (2015) nr. 2 pagina's 679-691 |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 12 van 21 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |