|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 8 gevonden artikelen
| Titel: |
On the LPCVD-Formed SiO2 Etching Mechanism in CF4/Ar/O2 Inductively Coupled Plasmas: Effects of Gas Mixing Ratios and Gas Pressure |
| Auteur: |
Son, Jinyoung Efremov, Alexander Chun, Inwoo Yeom, Geun Young Kwon, Kwang-Ho |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 34 (2014) nr. 2 pagina's 239-257 |
| Jaar: |
2014 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 8 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |