|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 8 gevonden artikelen
| Titel: |
Superhigh-Rate Epitaxial Silicon Thick Film Deposition from Trichlorosilane by Mesoplasma Chemical Vapor Deposition |
| Auteur: |
Wu, Sudong Kambara, Makoto Yoshida, Toyonobu |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 33 (2013) nr. 2 pagina's 433-451 |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 8 gevonden artikelen
| << vorige |