|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 8 gevonden artikelen
| Titel: |
Etching Characteristics and Mechanisms of Mo and Al2O3 Thin Films in O2/Cl2/Ar Inductively Coupled Plasmas: Effect of Gas Mixing Ratios |
| Auteur: |
Kang, Sungchil Efremov, Alexander Yun, Sun Jin Son, Jinyoung Kwon, Kwang-Ho |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 33 (2013) nr. 2 pagina's 527-538 |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 8 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |