|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 10 van 12 gevonden artikelen
| Titel: |
TiOx Films Deposited by Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition Method in Atmospheric Dielectric Barrier Discharge Plasma |
| Auteur: |
Klenko, Y. Pichal, J. |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 32 (2012) nr. 6 pagina's 1215-1225 |
| Jaar: |
2012 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 10 van 12 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |