|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 12 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
Silicon Oxide Coatings with Very High Rates (>10 nm/s) by Hexamethyldisiloxane-Oxygen Fed Atmospheric-Pressure VHF Plasma: Film-Forming Behavior Using Cylindrical Rotary Electrode |
| Auteur: |
Kakiuchi, Hiroaki Ohmi, Hiromasa Yamada, Takahiro Yokoyama, Keiji Okamura, Kohei Yasutake, Kiyoshi |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 32 (2012) nr. 3 pagina's 533-545 |
| Jaar: |
2012 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 12 van 16 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |