|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 18 gevonden artikelen
| Titel: |
Etching Characteristics and Mechanisms of TiO2 Thin Films in HBr/Ar and Cl2/Ar Inductively-Coupled Plasmas |
| Auteur: |
Jang, Hanbyeol Efremov, Alexander Kim, Daehee Kang, Sungchil Yun, Sun Jin Kwon, Kwang-Ho |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 32 (2012) nr. 2 pagina's 333-342 |
| Jaar: |
2012 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 18 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |