|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 15 van 18 gevonden artikelen
| Titel: |
Studies on Optimal Gas Supply For a Maskless Etching System with Micro- Discharge Plasma Operated at Atmospheric Pressure |
| Auteur: |
Hamada, Toshiyuki Arimura, Takuya Sakoda, Tatsuya |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 32 (2011) nr. 2 pagina's 325-332 |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 15 van 18 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |