|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 12 gevonden artikelen
| Titel: |
A Comparative Study of HBr-Ar and HBr-Cl2 Plasma Chemistries for Dry Etch Applications |
| Auteur: |
Efremov, Alexander Kim, Youngkeun Lee, Hyun-Woo Kwon, Kwang-Ho |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 31 (2010) nr. 2 pagina's 259-271 |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 12 gevonden artikelen
| volgende >> |