|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 13 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
Plasma Composition by Mass Spectrometry in a Ar-SiH4-H2 LEPECVD Process During nc-Si Deposition |
| Auteur: |
Moiseev, T. Chrastina, D. Isella, G. |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 31 (2011) nr. 1 pagina's 157-174 |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 13 van 16 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |