|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 12 gevonden artikelen
| Titel: |
Highly Selective and Low Damage Etching of GaAs/AlGaAs Heterostructure using Cl2/O2 Neutral Beam |
| Auteur: |
Park, B. J. Yeon, J. K. Lim, W. S. Kang, S. K. Bae, J. W. Yeom, G. Y. Jhon, M. S. Shin, S. H. Chang, K. S. Song, J. I. Lee, Y. T. Jang, J. H. |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 30 (2010) nr. 5 pagina's 633-640 |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 12 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |