|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 11 van 12 gevonden artikelen
| Titel: |
Room-Temperature Silicon Nitrides Prepared with Very High Rates (>50 nm/s) in Atmospheric-Pressure Very High-Frequency Plasma |
| Auteur: |
Kakiuchi, Hiroaki Ohmi, Hiromasa Nakamura, Kei Yamaguchi, Yoshihito Yasutake, Kiyoshi |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 30 (2010) nr. 5 pagina's 579-590 |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 11 van 12 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |