|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 10 gevonden artikelen
| Titel: |
Depth Profiled XPS Analysis of a Polymerized Silicon-Carbon Thin Film |
| Auteur: |
Scott, Paul R. Wieliczka, David M. Kruger, Michael B. |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 29 (2009) nr. 6 pagina's 559-566 |
| Jaar: |
2009 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 10 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |