|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
Use of Neural Network to Control a Refractive Index of SiN Film Deposited by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition |
| Auteur: |
Kim, Byungwhan Kim, Sungmo Hong, Wan-Shick |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 24 (2004) nr. 1 pagina's 29-40 |
| Jaar: |
2004 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers-Plenum Publishers, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 16 gevonden artikelen
| << vorige |