|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 20 gevonden artikelen
| Titel: |
ECR Plasma in Growth of Cubic GaN by Low Pressure MOCVD |
| Auteur: |
Biao Gu Yin Xu Fu Wen Qin San Sheng Wang Yu Sui Zhan Guo Wang |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 22 (2002) nr. 1 pagina's 16 p. |
| Jaar: |
2002-03 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic/Plenum Publishers, New York, U.S.A. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 20 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |