|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 20 van 20 gevonden artikelen
| Titel: |
Thermal Plasma Chemical Vapor Deposition of Si-Based Ceramic Coatings from Liquid Precursors |
| Auteur: |
Bouyer, E. Schiller, G. Müller, M. Henne, R. H. |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 21 (2001) nr. 4 pagina's 523-546 |
| Jaar: |
2001 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers-Plenum Publishers, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 20 van 20 gevonden artikelen
| << vorige |