|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 18 gevonden artikelen
| Titel: |
A Computational Examination of the Sources of Statistical Variance in Particle Parameters During Thermal Plasma Spraying |
| Auteur: |
R. L. Williamson J. R. Fincke C. H. Chang |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 20 (2000) nr. 3 pagina's 26 p. |
| Jaar: |
2000-09 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic/Plenum Publishers, New York, U.S.A. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 18 gevonden artikelen
| volgende >> |