|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 23 gevonden artikelen
| Titel: |
Etching Efficiency for Si and SiO2 by CFx, F, and C Ion Beams Extracted from CF4 Plasmas |
| Auteur: |
T. Yamaguchi K. Sasaki K. Kadota |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 20 (2000) nr. 1 pagina's 13 p. |
| Jaar: |
2000-03 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic/Plenum Publishers, New York, U.S.A. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 23 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |