|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 12 gevonden artikelen
| Titel: |
Etching of Silicon Nitride in CCl2F2, CHF3, SiF4, and SF6 Reactive Plasma A Comparative Study |
| Auteur: |
B. D. Pant U. S. Tandon |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 19 (1999) nr. 4 pagina's 19 p. |
| Jaar: |
1999-12 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic/Plenum Publishers, New York, U.S.A. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 12 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |