|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 10 gevonden artikelen
| Titel: |
Modeling of H2 and H2/CH4 Moderate-Pressure Microwave Plasma Used for Diamond Deposition |
| Auteur: |
Hassouni, K. Leroy, O. Farhat, S. Gicquel, A. |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 18 (1998) nr. 3 pagina's 325-362 |
| Jaar: |
1998 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers-Plenum Publishers, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 10 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |