|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 18 gevonden artikelen
| Titel: |
On the Correlation Between Deposition Rate and Process Parameters in Remote Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition |
| Auteur: |
Bayer, Ch. von Rohr, Ph. Rudolf |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 18 (1998) nr. 2 pagina's 189-214 |
| Jaar: |
1998 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers-Plenum Publishers, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 18 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |