|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 10 gevonden artikelen
| Titel: |
Characterization of Negative Tone Photoresist Based on Acid Catalyzed Dehydration Crosslinking of Novolac Resins Having Pendant Carboxyl Groups |
| Auteur: |
Hui-Hsiang Liu Wei-Tin Chen Fu-Chang Wu |
| Verschenen in: |
Journal of polymer research |
| Paginering: | Jaargang 9 (2002) nr. 4 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2002 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Dordrecht, The Netherlands |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 10 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |