|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 9 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of a deprotection group on acrylic photoresist |
| Auteur: |
Fu, S. C. Hsieh, K. H. Wang, L. A. |
| Verschenen in: |
Journal of polymer research |
| Paginering: | Jaargang 6 (1999) nr. 2 pagina's 99-105 |
| Jaar: |
1999 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers-Consultants Bureau, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 9 gevonden artikelen
| volgende >> |