|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 21 van 22 gevonden artikelen
| Titel: |
Synthesis of chemically amplified photoresist polymer containing four (Meth)acrylate monomers via RAFT polymerization and its application for KrF lithography |
| Auteur: |
Li, Hu Liu, Jingcheng Zheng, Xiangfei Ji, Changwei Mu, Qidao Liu, Ren Liu, Xiaoya |
| Verschenen in: |
Journal of polymer research |
| Paginering: | Jaargang 23 (2016) nr. 5 pagina's 1-7 |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Netherlands, Dordrecht |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 21 van 22 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |