|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 10 van 28 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of reactive ion etching and post-etching annealing on the electrical characteristics of indium-tin oxide/silicon junctions |
| Auteur: |
Chiou, BI-SHIOU Wu, KING-LONG |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 9 (1998) nr. 2 pagina's 151-157 |
| Jaar: |
1998 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic Publishers, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 10 van 28 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |