|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 21 van 56 gevonden artikelen
| Titel: |
Exploring the influence of Al content on the optical and interface properties of HfAlOx mixed gate dielectric thin films and their applications in MOS devices |
| Auteur: |
Zhang, Renjia Tuokedaerhan, Kamale Du, Hongguo Maimaiti, Ahemaitijiang Ibraimov, Margulan |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 35 () nr. 28 pagina's xx |
| Jaar: |
2024-10-01 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 21 van 56 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |