|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 54 van 96 gevonden artikelen
| Titel: |
Investigation of impact of floating gate implantation annealing on the characteristics of 4Xnm ETOX NOR-flash memory |
| Auteur: |
Du, Yihang Gu, Lin Wang, Zhuangzhuang Yao, Chun Mu, Xiaodong Zhong, Dongling |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 35 () nr. 2 pagina's xx |
| Jaar: |
2024-01-20 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 54 van 96 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |