|
Investigation of ultrathin yttrium silicide for NMOS source/drain contacts |
|
|
|
Titel: |
Investigation of ultrathin yttrium silicide for NMOS source/drain contacts |
Auteur: |
Sun, Xianglie Xu, Jing Gao, Jianfeng Liu, Jinbiao He, Yanping Chen, Xu Kong, Mengjuan Li, Yongliang Li, Junfeng Wang, Wenwu Ye, Tianchun Luo, Jun |
Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
Paginering: |
Jaargang 34 () nr. 15 pagina's xx |
Jaar: |
2023-05-29 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Springer US, New York |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|