|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 32 van 74 gevonden artikelen
| Titel: |
High dielectric response of TaOX thin film and its modification by controlling oxygen vacancy concentration |
| Auteur: |
Cai, Qingfeng Chen, Jianwen Liu, Si Niu, Guo Zhou, Shaopeng Wang, Xiucai Zhu, Wenbo Yu, Xinmei Xiao, Peng |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 34 () nr. 11 pagina's xx |
| Jaar: |
2023-04-17 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 32 van 74 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |