|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 116 gevonden artikelen
| Titel: |
Argon pressure dependent optoelectronic characteristics of amorphous tin oxide thin films obtained by non-reactive RF sputtering process |
| Auteur: |
Ziani, N. Galca, A. C. Belkaid, M. S. Stavarache, I. |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 32 () nr. 9 pagina's 12308-12317 |
| Jaar: |
2021-04-21 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 116 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |