|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 73 van 76 gevonden artikelen
| Titel: |
Thermal stability issue of ultrathin Ti-based silicide for its application in prospective DRAM peripheral 3D FinFET transistors |
| Auteur: |
Liu, Yaodong Xu, Jing Gao, Jianfeng Liu, Jinbiao Zhang, Dan Zhou, Xuebing Sun, Xianglie Li, Yongliang Li, Junfeng Zhao, Chao Wang, Wenwu Chen, Dapeng Ye, Tianchun Luo, Jun |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 32 () nr. 19 pagina's 24107-24114 |
| Jaar: |
2021-08-28 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 73 van 76 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |