|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 79 van 100 gevonden artikelen
| Titel: |
Selective wet etching in fabricating SiGe nanowires with TMAH solution for gate-all-around MOSFETs |
| Auteur: |
Cheng, Xiaohong Li, Yongliang Liu, Haoyan Zan, Ying Lu, Yihong Zhang, Qingzhu Li, Junjie Du, Anyan Wu, Zhenhua Luo, Jun Wang, Wenwu |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 31 () nr. 24 pagina's 22478-22486 |
| Jaar: |
2020-11-02 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 79 van 100 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |