|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 48 van 100 gevonden artikelen
| Titel: |
Impact of SiO2 interfacial layer on the electrical characteristics of Al/Al2O3/SiO2/n-Si metal–oxide–semiconductor capacitors |
| Auteur: |
Kimbugwe, Nakibinge Tawfiq Yilmaz, Ercan |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 31 () nr. 15 pagina's 12372-12381 |
| Jaar: |
2020-06-22 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 48 van 100 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |