|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 81 van 107 gevonden artikelen
| Titel: |
Stressor SiNx contact etch stop layer (CESL) technology and its application in nano-scale transistors |
| Auteur: |
Xu, Qiang Xiong, Wenjuan Wang, Guilei Ye, Tianchun |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 31 () nr. 13 pagina's 10078-10083 |
| Jaar: |
2020-05-21 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 81 van 107 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |