|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 58 van 90 gevonden artikelen
| Titel: |
Novel gap filling technique of shallow trench isolation structure in 16/14 nm FinFET using sub-atmospheric chemical vapor deposition |
| Auteur: |
Xu, Qiang Wang, Guilei Xiong, Wenjuan Ye, Tianchun |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 31 () nr. 12 pagina's 9796-9802 |
| Jaar: |
2020-05-06 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 58 van 90 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |