|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 46 van 81 gevonden artikelen
| Titel: |
Microscale pattern etch of 4H–SiC by inductively coupled plasma |
| Auteur: |
Zhuang, Shiwei Tang, Jiale Gu, Zhiqiang Che, Dongchen Hu, Dongdong Chen, Lu Xu, Kaidong |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 30 (2019) nr. 20 pagina's 18788-18793 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 46 van 81 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |