|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 80 van 92 gevonden artikelen
| Titel: |
Study of γ-ray radiation influence on SiO2/HfO2/Al2O3/HfO2/Al2O3 memory capacitor by C–V and DLTS |
| Auteur: |
Cao, Shu-rui Ke, Xiao-yu Ming, Si-ting Wang, Duo-wei Li, Tong Liu, Bing-yan Ma, Yao Li, Yun Yang, Zhi-mei Gong, Min Huang, Ming-min Bi, Jin-shun Xu, Yan-nan Xi, Kai Xu, Gao-bo Majumdar, Sandip |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 30 (2019) nr. 12 pagina's 11079-11085 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 80 van 92 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |