|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 21 van 102 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of the thickness of Si film on Si/Se film doped silicon prepared by femtosecond laser |
| Auteur: |
Shi, Yuanlin Wu, Zhiming Du, Lingyan Li, Siyu Jiang, Yadong |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 29 (2017) nr. 6 pagina's 4526-4532 |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 21 van 102 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |