|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 74 van 201 gevonden artikelen
| Titel: |
Fabrication of an ultra-thin low resistance and high stability Ru–Mo–C seedless barrier for advanced Cu dual-damascene interconnects |
| Auteur: |
Zou, Jianxiong Li, Qiran Lin, Liwei Jiao, Guohua Lu, Yuanfu Liu, Bo |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 29 () nr. 12 pagina's 10346-10352 |
| Jaar: |
2018-04-18 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 74 van 201 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |