|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 54 van 102 gevonden artikelen
| Titel: |
Interfacial thermal stability and band alignment of La2O3/Al2O3 nanolaminates deposited by atomic layer deposition |
| Auteur: |
Fan, Jibin Liu, Hongxia Li, Donglin Wang, Shulong Duan, Li Yu, Xiaochen |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 28 (2017) nr. 15 pagina's 11253-11259 |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 54 van 102 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |