|
Innovative Ge–SiO2 bonding based on an intermediate ultra-thin silicon layer |
|
|
|
Titel: |
Innovative Ge–SiO2 bonding based on an intermediate ultra-thin silicon layer |
Auteur: |
Mao, Danfeng Ke, Shaoying Lai, Shumei Ruan, Yujiao Huang, Donglin Lin, Shaoming Chen, Songyan Li, Cheng Wang, Jianyuan Huang, Wei |
Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
Paginering: |
Jaargang 28 (2017) nr. 14 pagina's 10262-10269 |
Jaar: |
2017 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Springer US, New York |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|