|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 150 gevonden artikelen
| Titel: |
Band alignments of O3-based and H2O-based amorphous LaAlO3 films on silicon by atomic layer deposition |
| Auteur: |
Zhao, Lu Liu, Hongxia Wang, Xing Feng, Xingyao Fei, Chenxi |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 28 (2016) nr. 1 pagina's 803-807 |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 150 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |