|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 19 van 150 gevonden artikelen
| Titel: |
Deep dry etching of fused silica using C4F8/Ar inductively coupled plasmas |
| Auteur: |
Lin, Laicun Jing, Xiangmeng Liu, Fengman Yin, Wen Yu, Daquan Cao, Liqiang |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 28 (2016) nr. 1 pagina's 480-486 |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 19 van 150 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |