|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 68 van 150 gevonden artikelen
| Titel: |
Influences of rapid thermal annealing on the characteristics of Al2O3\La2O3\Si and La2O3\Al2O3\Si films deposited by atomic layer deposition |
| Auteur: |
Fei, Chenxi Liu, Hongxia Wang, Xing Zhao, Dongdong Wang, Shulong |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 27 (2016) nr. 8 pagina's 8550-8558 |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 68 van 150 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |