|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 44 van 175 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of substrate temperature and post-deposition annealing on intrinsic a-SiOx:H film for n-Cz-Si wafer passivation |
| Auteur: |
He, Yuping Huang, Haibin Zhou, Lang Yue, Zhihao Yuan, Jiren |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 27 (2016) nr. 5 pagina's 4659-4664 |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 44 van 175 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |