|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 29 van 130 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of O2 flow rate in the annealing process on metal–insulator transition of vanadium oxide thin films |
| Auteur: |
Li, Na Hu, Ming Liang, Ji-Ran Liu, Xing Wu, Mai-Jun |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 26 (2015) nr. 9 pagina's 6920-6925 |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 29 van 130 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |