|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 93 van 110 gevonden artikelen
| Titel: |
Surface and interface studies of RF sputtered HfO2 thin films with working pressure and gas flow ratio |
| Auteur: |
Das, K. C. Ghosh, S. P. Tripathy, N. Bose, G. Ashok, A. Pal, P. Kim, D. H. Lee, T. I. Myoung, J. M. Kar, J. P. |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 26 (2015) nr. 8 pagina's 6025-6031 |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 93 van 110 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |