|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 13 van 130 gevonden artikelen
| Titel: |
Complex impedance spectroscopy of high-k HfO2 thin films in Al/HfO2/Si capacitor for gate oxide applications |
| Auteur: |
Nath, Madhuchhanda Roy, Asim |
| Verschenen in: |
Journal of materials science. Materials in electronics |
| Paginering: | Jaargang 26 (2015) nr. 6 pagina's 3506-3514 |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 13 van 130 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |